德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统成为首选清洁工艺

多晶硅，是单质硅的一种形态，多晶硅材料是光伏产业的基础。在生产中，还原炉每运行一个周期，其内表面都会残留无定形硅，同时含有氯硅烷水解物及其他粉尘杂质。因此每运行一个周期需要采用清洗液，并根据残留物分布情况对还原炉基盘和钟罩分别采用特定的清理工艺进行处理。还原工艺是多晶硅生产的关键工艺，其工艺条件和参数控制好坏直接影响产品质量和产量。
 
多晶硅在整个生产过程中，对产品质量的控制要求很高，对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键，任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。北京德高洁清洁设备有限公司经过研发设计并制造出了多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统，可以完全将多晶硅还原炉钟罩清洗干净，满足生产需求。

德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统是以高压清洗机为主机，以高压水射流为动力的自驱动三维旋转喷头形成360°的网状高压水柱喷射表面，从而完成钟罩内部表面的水力扫射，并采用专用清洗剂等为主要清洗液，先用纯水(去离子水或叫脱盐水)漂洗，之后再采用高纯水冲洗，最终完成清洗过程。

目前国内多晶硅钟罩清洗方主要有高压清洗、化学溶剂低压清洗、机械抛光等清洗方法，但德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统更具特点：
 
1、核心部件高压泵采用进口耐酸碱、耐高温、全不锈钢的加压泵，清洗作业时三维旋转喷头可实现自驱动旋转、自动升降、全方位自动清洗，并可保证多晶硅的纯度；

2、利用多晶硅生产厂家的蒸汽余热将清洗介质加热，从而改变原电加热工艺；

3、利用多晶硅生产厂家的厂家蒸汽余热，设置10万级空气净化换热装置代替原氮气电加热干燥还原炉体工艺；

4、北京德高洁清洁设备有限公司自行研发设计的自驱动旋转升降喷射机构可适应各规格的还原炉体；

5、由于清洗过程中会有氢气和酸性物质产生，所以必须解决二次污染问题。我公司自行设计的全封闭式清洗装置可完美解决二次污染；

6、设计出高压碱液和清水的供给和分开回收装置，并进行净化使后序清洗水用于前序的漂洗工序，充分利用了废水资源。

还原炉沉积多晶硅是间歇操作，一个运行周期结束后需要打开钟罩收割硅棒，然后进行基盘清理，再装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。北京德高洁清洁设备有限公司研发生产的多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统有效解决了生产中的实际问题，方便、快捷、处理效果好，目前已成为多晶硅还原炉钟罩清洁的首选。