德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统及清洗注意事项

目前，随着光伏产业的快速发展，对多晶硅的需求量也日趋增大。在多晶硅生产设备中，还原炉是整个生产系统的关键部件，多晶硅生产企业要实现节能降耗就必须严格把控还原炉的运行。

众所周知，对还原炉内壁进行清洗处理，就是降低能耗的一种有效的方式，通过提高还原炉内壁光洁度及光亮度，使还原炉在硅棒生长过程中，炉壁在高温状态下，对热辐射反射率的最大化，从而起到降低能耗的作用。



德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统是以高压清洗机为主机，以高压水射流为动力的自驱动三维旋转喷头形成360°的网状高压水柱喷射表面，从而完成钟罩内部表面的水力扫射，并采用专用清洗剂等为主要清洗液，先用纯水(去离子水或叫脱盐水)漂洗，之后再采用高纯水冲洗，最终完成清洗过程。

一、工作流程

还原炉钟罩到位—预清洗—清洗剂(碱液)清洗—漂洗—高纯水冲洗—净化热空气干燥—常温干燥—钟罩吊走。

二、系统特点

1、德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统采用进口高压泵，耐酸碱、耐高温。清洗作业时三维旋转喷头实现自驱动旋转、自动升降、全方位自动清洗，保证多晶硅的纯度；

2、设置10万级空气净化换热装置代替原氮气电加热干燥还原炉体工艺；

3、自行研发设计的自驱动旋转升降喷射机构，一套系统实现多种型号还原炉钟罩的清洗烘干；

4、由于清洗过程中会有氢气和酸性物质产生，德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统采用全封闭式清洗装置可完美解决二次污染；

5、德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统充分利用资源，设计了高压碱液和清水的供给和分开回收装置，并进行净化使后序清洗水用于前序的漂洗工序；利用多晶硅生产厂家的蒸汽余热将清洗介质加热，从而改变原电加热工艺。

三、注意事项

多晶硅还原炉内的残留物及清洗液具有腐蚀性，同时清洗中残留氯硅烷会发生水解伴有氢气产生，容易产生爆鸣燃烧。因此，现场操作中，需要做好安全防护措施。



1、清洗过程中必须穿戴好劳保用品，戴防护手套；

2、用氢氧化钠溶液擦洗基盘时操作要缓慢，以免摩擦生热引起着火；

3、基盘清洗过程中要避免溶液流进进料管和尾气管内造成二次污染，德高洁多晶硅还原炉钟罩清洗系统采用全封闭式清洗装置可完美解决二次污染的问题；

4、清洗中要保证将钟罩烘烤干，避免有残留水分；

5、清洗剂的选择对清洗效果和作业安全有直接影响，这方面我公司积累了丰富的实践经验解决闪爆等问题。