改良西门子法是一种化学方法，主要由三氯氢硅与氢气在1050℃～1150℃，一定压力下进行还原气象沉积反应生产高纯多晶硅，该工艺一直是半导体行业电子级多晶硅生产最主要的工艺方法。其中，还原炉和氢化炉是改良西门子法生产多晶硅的核心设备，其运行好坏直接影响多晶硅质量及生产成本。还原炉和氢化炉为电耗较高的设备，一般企业为降低电耗及成本，大都釆取调整工艺参数、提供进料温度、提高冷却水温、清洗钟罩等方法，其中钟罩清洗对多晶硅生产非常重要，如果钟罩清洗不干净、光洁度不够，常常会导致硅芯击不穿或对产品质量污染，因此拥有一套完善的多晶硅还原炉清洗系统对多晶硅生产厂家显得尤为重要。

 

 

国内多晶硅钟罩清洗方式多种多样，有高压清洗、化学溶剂低压清洗、机械抛光等，但大多釆用碱液中压清洗。我们在使用过程中发现这些清洗方式不能将钟罩清洗干净，不能满足生产需求。为此，北京德高洁清洁设备有限公司经过研发设计并制造出了多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统。

 

 

多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统是以高压水射流为动力的自驱动三维旋转喷头形成360°的网状高压水柱喷射表面，从而完成钟罩内部表面的水力扫射，并采用专用清洗剂等为主要清洗液，先用纯水(去离子水或叫脱盐水)漂洗，之后再采用高纯水冲洗，最终完成清洗过程。具体特点如下：

 

 

1、核心部件高压泵采用进口耐酸碱、耐高温、全不锈钢的加压泵，清洗作业时三维旋转喷头可实现自驱动旋转、自动升降、全方位自动清洗，并可保证多晶硅的纯度；

 

2、利用多晶硅生产厂家的蒸汽余热将清洗介质加热，从而改变原电加热工艺；

 

3、利用多晶硅生产厂家的厂家蒸汽余热，设置10万级空气净化换热装置代替原氮气电加热干燥还原炉体工艺；

 

4、北京德高洁清洁设备有限公司自行研发设计的自驱动旋转升降喷射机构可适应各规格的还原炉体；

 

5、由于清洗过程中会有氢气和酸性物质产生，所以必须解决二次污染问题。我公司自行设计的全封闭式清洗装置可完美解决二次污染；

 

6、设计出高压碱液和清水的供给和分开回收装置，并进行净化使后序清洗水用于前序的漂洗工序，充分利用了废水资源。

 

实际使用证明，北京德高洁清洁设备有限公司研发生产的多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统有效解决了生产中的实际问题，为公司节能降耗提供了有利条件，适用于在全国范围推广应用。