多晶硅是用工业硅通过化学、物理途径提纯制得，多晶硅主要用于生产单晶硅和卫星太阳能电池。单晶硅即硅半导体是多晶硅的衍生产品，是制造继承电路和电子元件的优质材料，被广泛应用于电子工业中。

 

还原炉沉积多晶硅是间歇操作，一个运行周期内，硅棒不断长大，一个运行周期结束后打开钟罩收割硅棒。但在运行期内，基盘及钟罩表面均会产生一层土黄色粉末，其主要成分是无定形硅。在收割硅棒后，需要进行基盘和钟罩的清理，再装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。

 

 

还原炉钟罩污染物易造成内表面热量反射减少，使生产能耗增加；电极周围污染物降低了点击的绝缘而导致运行过程中接地故障、倒棒等生产事故。而用于电子行业的多晶硅对产品质量纯净度的控制要求更高，

 

随着我国半导体工业发展，对多晶硅纯度要求越来越高，还原炉沉积环境的洁净度就显得特别关键，任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。那么，如何清理能方便快捷，同时效果更佳？

 

多晶硅还原炉清洗系统始于2009年，国内第一家研发设计制造并获得实用新型专利是北京德高洁清洁设备有限公司，该公司多晶硅还原炉钟罩清洗系统覆盖了国内多家多晶硅生产企业。早期有高压清洗、化学溶剂低压清洗、机械抛光等，但大多釆用碱液中压清洗，这些清洗方式不仅不能将钟罩清洗干净，还会损伤表面镀银的还原炉钟罩，为攻克这一难题，一款全新的用于电子级的多晶硅还原炉钟罩清洗系统应运而生。

 

 

1、多晶硅还原炉钟罩清洗系统以水为动力，以水力自驱动三维洗罐器为喷头，形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射。

 

2、采用可以旋转和升降的清洗吹干执行机构，根据还原炉每个视孔镜相对原点的相对位置进行准确定位。可自动切换不同清洗液及吹干，通过控制系统可对清洗、吹干时间等进行调整。清洗时只需一键操作即可，操作简单方便。

 

3、根据还原炉底部法兰的结构特设计升级后的清洗工作台，不仅可以满足对内壁和视孔镜的清洗，同时也满足了底部法兰的清洗。可实现对法兰内边缘的清洗，保证整个法兰底部都被清洗液覆盖，并清洗、吹干。

 

4、在整个还原炉的清洗过程中，清洗、干燥中筒内形成微负压状态，防止清洗外溢，同时将底座与筒体下法兰处的污染物等一并吹扫，通过排污管排出，从而保证了整个过程不会对洁净区造成污染。

 

 

经过实际应用，多晶硅还原炉清洗系统整套系统可实现全自动化清洗操作，在一个工作平台上，一次吊装可依次实现自动清洗烘干全部功能，完全实现无死角清洗，同时具有完善的联锁和保护功能。