电子级多晶硅还原炉钟罩内部清洗要求及清洗方式

多晶硅分太阳能级和电子级两大类，电子级多晶硅是目前最高纯度等级的多晶硅产品，主要作为硅片及芯片等生产的原材料，是集成电路产业的核心关键基础原料。电子级多晶硅的纯度要求则为99.9999999%~99.999999999%，即（9N到11N），电子级多晶硅的高纯度要求相当苛刻，如5000吨的电子级多晶硅中总的杂质含量仅相当于一枚1元硬币的重量。
 
由于多晶硅纯度会严重影响到单晶硅拉制环节，所以电子级多晶硅杂质含量要求更为苛刻，电子级多晶硅生产厂家在工艺流程、设备维护、产品运输等多方面进行提升，以提高企业的竞争力度。而在电子级多晶硅改良西门子法生产工艺中，还原炉是整个多晶硅生产系统的“心脏”部件，也是影响实际产量最核心的工艺环节，生产出来的多晶硅质量的优劣取决于它，因此还原炉钟罩内壁的清洁度直接影响最终产品的质量，同时，作为多晶硅的生产电耗比重首位的热沉积反应器，其内壁的光洁可以有效降低还原电耗，所以在电子级多晶硅生产过程中，多晶硅还原炉钟罩内部清洁至关重要。

一、电子级多晶硅还原炉钟罩清洗要求

1、洁净度要求

清洗过程中要确保洁净度达到电子级别的标准，这通常意味着要彻底去除钟罩表面的所有尘埃、污垢和任何可能对硅片产生负面影响的杂质。

2、避免化学污染

清洗过程中使用的化学品必须是高纯度的，并且不得留下任何残留物。使用去离子水（DI水）等高纯度水源是必要的，以避免引入任何额外的离子或杂质。

3、温度控制

清洗过程中的温度应该在适当的范围内，以确保清洗剂的有效性，并防止对设备产生不良影响。同时，温度控制也有助于防止在清洗过程中产生的水汽对设备腐蚀。

4、机械清洗

对钟罩表面的机械清洗应该是适用而彻底的，以在不伤害其内部表面结构的情况下，去除附着在表面的任何颗粒或杂质。

5、避免静电

电子级多晶硅生产对静电敏感，在清洗过程中要注意避免静电的产生。

6、实时监测和控制

清洗过程中要实时监测清洗效果，确保达到规定的洁净度标准。

7、设备保养

清洗设备本身也需要定期保养，以确保其正常运行且不会引入额外的污染。

8、符合行业标准

清洗过程应符合相关的行业标准和规范，以确保清洗的效果和可重复性。

在进行电子级多晶硅还原炉钟罩清洗时，以上要求都是为了确保最终生产的硅片符合高纯度和高质量的要求。这些要求有助于避免因为钟罩表面残留的污染物而引入缺陷，从而影响电子级多晶硅硅片的生产质量，应对于以上的清洗要求，普通的还原炉钟罩清洗方式处理速度慢、清洗质量不均匀，且整体自动化程度低；因此需要一种高效、快速、自动化程度高的多晶硅还原炉钟罩内壁清洗方式。

二、电子级多晶硅还原炉钟罩高效清洗方式

德高洁高压水电子级多晶硅还原炉钟罩清洗系统，由高压热水清洗系统、热风净化烘干系统、控制系统等组成，系统操作简单，自动化程度高，整个清洗工艺包含：还原炉钟罩到位→预清洗→清洗剂(碱液)清洗→漂洗→高压纯水冲洗→净化热空气干燥→常温干燥→钟罩吊走，全程仅需人工辅助作业，解决传统人工清洗不安全、不环保、清洗效果差、自动化程度低、效率不高的缺陷。
 
采用PLC+触摸屏柔性自动控制系统，能实现对还原炉钟罩的自动清洗和烘干，清洗烘干时间、温度、清洗、漂洗等工艺参数可以根据需要自行调整设定，同时具有半自动或手动功能。一次吊装在一个工作台上完成全部清洗、烘干过程，可实现远程对楼下设备的控制和主要参数监控。

全密闭式清洗烘干系统，清洗时采用高压水三维立体清洗技术，以水力自驱动三维洗罐器为喷头，形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射，实现内部无死角清洗，以水为清洗介质可有效避免静电的产生，清洗后旋转和升降清洗吹干执行机构，根据还原炉每个视孔镜相对原点的相对位置进行准确定位，可自动切换不同清洗液及吹干，通过控制系统可对清洗、吹干时间等进行调整，清洗时只需一键操作即可，操作简单方便。

在整个还原炉的清洗过程中，清洗、干燥中筒内形成微负压状态，防止清洗外溢，清洗后的废水废气处理系统可使污染物(废气、废水等)在受控的条件下，按设计出口排放，基本消除了对现场及操作人员的污染。
 
德高洁高压水电子级多晶硅还原炉钟罩清洗系统，其核心部件、元件和附件原装进口保证了电子级多晶硅钟罩清洗系统性能的可靠，可以在一套系统实现多种型号钟罩的清洗烘干。除此之外，根据还原炉底部法兰的结构特殊设计升级后的清洗工作台，不仅可以满足对内壁和视孔镜的清洗，同时也满足了底部法兰的清洗。可实现对法兰内边缘的清洗，保证整个法兰底部都被清洗液覆盖，并清洗、吹干。

目前，德高洁在多晶硅还原炉清洗行业已拥有国内90%的用户，为多晶硅行业提供了几十套还原炉清洗系统，如您有需求欢迎电话咨询，德高洁将竭诚为您服务。